Case study: RLE20 interferometer enhances performance of Raith’s latest e-beam tool (pdf)
Raith's VB300 e-beam lithography tool is a development of the highly successful VB6 series introduced in 1993. In designing the new tool, Raith identified that a reduction of noise-induced positional errors would significantly improve tool performance. Through a combination of improved mechanical rigidity and integration of the Renishaw RLE20 differential interferometer based encoder system, these errors are now expected to be <3 nm.
Ehhez a fájltípushoz megtekintő programra van szükség, amely ingyenesen szerezhető be itt Adobe
A legutóbbi elemek - Interferométeres lézeres útmérők
Nem találta, amit keresett?
mondja el, hogy mit nem talált meg, és mindent megteszünk, hogy segítsünk